Titāna daļas pusvadītājiem

1. Īpaši-zema piemaisījumu izdalīšanās kontrole

Mēs izmantojam keramikas instrumentu un bez dzelzs{1}}instrumentu apstrādes shēmu visā ražošanas procesā. Visiem palīgmateriāliem, kas saskaras ar apstrādājamo detaļu, tiek veiktas trīs skābes mazgāšanas attīrīšanas kārtas, stingri kontrolējot kopējo dzelzs, hroma utt. saturu 0,02% robežās. Tas pilnībā novērš parasto metālu jonu piesārņojuma problēmu pusvadītāju procesos un novērš pārmērīgu metāla atlikumu veidošanos uz vafeļu virsmas. Tas samazina ķēdes īssavienojuma risku no materiāla puses.

 

2. Ilgstoša-korozijas izturība

Pēc tam, kad daļa ir izveidota, tā pasivēšanai tiks pakļauta divu dažādu koncentrāciju vāja oksidējoša šķīduma iegremdēšanai. Uz virsmas tiks izveidota vienota 8-10 nm bieza titāna dioksīda aizsargplēve. Pat tad, ja pusvadītāju tīrīšanas procesā 2000 stundas nepārtraukti tiek pakļauti atšķaidītas fluorūdeņražskābes un slāpekļskābes jauktiem šķīdumiem, vafeles virsmu nesaskrāpēs bez bedrīšu atdalīšanas un netīrumiem.

 

3. Augstas-precizitātes izmēru stabilitāte

Apstrādes laikā visā procesā tiek izmantots šķidrā slāpekļa aerosols pastāvīgai temperatūras kontrolei, kontrolējot apstrādes laikā radušos deformāciju 0,003 mm robežās. Pirms izvešanas no rūpnīcas gatavie izstrādājumi tiek pakļauti 24 stundu augstas un zemas temperatūras cikla testiem. Pat ilgstoši darbojoties pusvadītāju procesa vidē 180 grādos, nebūs deformācijas iesprūšanas un deformācijas pielipšanas. Nav nepieciešams bieži izjaukt un pielāgot izlīdzināšanas precizitāti.

 

4. Zems izplūdes ātrums, kas piemērots vakuuma videi

Visas detaļas vispirms tiek pakļautas 120 grādu vakuuma cepšanai 48 stundas degazācijas apstrādei. Uz virsmas adsorbētie ūdens tvaiki un sīkās daļiņas tiek pilnībā noņemtas. Pēc uzstādīšanas pusvadītāju vakuuma kamerā tas var palīdzēt iekārtai sasniegt mērķa vakuuma pakāpi par 25% ātrāk nekā izmantojot parastās nerūsējošā tērauda detaļas, tādējādi samazinot vakuuma sūknēšanas gaidīšanas laiku.

1. Vafeļu paplāte PVD tvaiku pārklāšanas iekārtai

Izmanto, lai atbalstītu pārklājamo silīcija plāksni. Mērķa materiāla izsmidzināšanas augstas-temperatūras vidē titāna daļa nereaģēs ar izsmidzināšanas gāzi un neizlaidīs kamerā liekos piemaisījumus, kas var uzlabot uz vafeles virsmas nogulsnētā metāla plēves slāņa viendabīgumu par 5%, izvairoties no skaidu noplūdes problēmas, ko izraisa nepietiekams metāla slāņa biezums. Tas ir piemērots pārklājuma ražošanas prasībām 28 nm un zemākiem procesiem.

 

2. Vafeļu turētājs mitrās tīrīšanas mašīnai

RCA standarta tīrīšanas procesā statīvs ir pilnībā iegremdēts spēcīgas skābes un stipru sārmu tīrīšanas šķīdumos. Titāna materiāls netiks sarūsējis un neradīs gružus, kā arī nepieķersies vafeles virsmai, lai izraisītu daļiņu piesārņojumu. Tas var samazināt vienas partijas vafeļu tīrīšanas daļiņu defektu līmeni par 12%. Tajā pašā laikā statīva vieglās īpašības var arī samazināt tīrīšanas mašīnas pārraides slodzi un samazināt iekārtas enerģijas patēriņu.

 

3. Elektrodu fiksācijas sēdeklis jonu implantācijas iekārtai

Izmanto, lai fiksētu augstsprieguma{0}}elektrodus iekārtā. Titāna ne-magnētiskā īpašība netraucēs jonu stara trajektoriju, ļaujot kontrolēt jonu implantācijas dziļuma novirzi ļoti mazā diapazonā, izvairoties no nevienmērīgas injekcijas devas problēmas lokālajā plāksnītes zonā. Tas ievērojami uzlabo mikroshēmas elektriskās veiktspējas konsekvenci.

 

4. Savienotāja atloks pusvadītāju vakuuma cauruļvadam

Iekārtas vakuuma cauruļvada dažādu posmu savienošana. Titāna zemais izplūdes ātrums var uzturēt augstu-tīru vakuuma vidi cauruļvada iekšienē un neizraisīs vakuuma pakāpes svārstības, jo parastos nerūsējošā tērauda atlokos pēc ilgstošas{2}}lietošanas izdalās gāze. Tas samazina iekārtu izslēgšanas trauksmju skaitu, ko izraisa vakuuma novirzes, un palielina ražošanas līnijas nepārtrauktas darbības laiku par 30%.

1. Nestandarta izmēru pielāgošana-

Paļaujoties uz mūsu pašu 5 asu apstrādes centru, detaļu garumu, platumu un augstumu var pielāgot atbilstoši klienta esošās pusvadītāju iekārtas uzstādīšanas vietai. Klientam nav jāmaina aprīkojuma saskarne, un pirmo paraugu var piegādāt 7 dienu laikā.

 

2. Virsmas stāvokļa pielāgošana

Pēc pieprasījuma var izvēlēties divas virsmas apstrādes metodes: spoguļpulēšanu un matētu smilšu strūklu. Tie ir piemēroti dažādām ražošanas procesa tīrības prasībām un var izvairīties no daļiņu adhēzijas, kas ietekmē pusvadītāju ražošanas vidi.

 

3. Īpašu saskarņu pielāgošana

Īpašas konstrukcijas, piemēram, īpašus karšu slotus un pozicionēšanas atveres, var pielāgot, lai tās pilnībā atbilstu klienta paša{0}}izstrādātā aprīkojuma montāžas prasībām. Papildu adaptera sastāvdaļas nav jāpievieno.

Vienums	Specifikācija
Produkta nosaukums	Titāna daļas pusvadītājiem
Materiāls	Tīrs titāns (2. pakāpe), titāna sakausējums (5. klase Ti-6Al-4V)
Ražošanas process	CNC apstrāde, virpošana, frēzēšana, slīpēšana, metināšana
Pieejamās formas	Plāksne, gredzens, caurule, stienis, bloks, pielāgotas detaļas
Izmēri	Pielāgots atbilstoši rasējumiem vai paraugiem
Tolerance	Līdz ±0,01 mm
Virsmas apdare	Pulēts, apstrādāts ar smilšu strūklu, marinēts, anodēts, precīzi apstrādāts
Virsmas raupjums	Ra 0,2–1,6 μm (pieejams pēc pasūtījuma)
Tīrība	Līdz 99,6% (2. klases titāns)
Darba temperatūra	Līdz 400 grādiem
Blīvums	4,51 g/cm³
Cietība	2. pakāpe: HB 145–200; 5. klase: HRC 30–36
Izturība pret koroziju	Lieliska izturība pret skābēm, sārmiem un tehnoloģiskām ķimikālijām
Ķīmiskā saderība	Piemērots pusvadītāju ķimikālijām un īpaši{0}}augstas tīrības vidēm
Pārbaude	Izmēru pārbaude, materiālu sertifikācija, virsmas pārbaude

 

 

 

Populāri tagi: titāna daļas pusvadītājiem, Ķīna titāna daļas pusvadītāju ražotājiem, piegādātājiem, rūpnīcas